高純氧氣可用于二氧化硅的化學(xué)氣相沉積
發(fā)布時間：2020-01-29來源：洛陽華普高純氣體點擊：3642
高純氧氣可用于二氧化硅的化學(xué)氣相沉積
高純氧氣用于二氧化硅的化學(xué)氣相沉積，作為氧化源和生產(chǎn)高純水的試劑，干氧化與四氟化碳混合用于等離子體蝕刻。應(yīng)注意安全，并應(yīng)做好防震，防火，耐熱和防油等工作。
據(jù)了解，高純氧氣可以促進(jìn)燃燒。應(yīng)將其保存在陰涼處。嚴(yán)禁接觸煙花和易燃材料。請勿在氧氣計的螺旋形嘴上放油。對于不同類型的氣體（例如，氮氣、氫氣、氬氣和氦氣），高純氣體具有不同的純度指標(biāo)。
而高純氧氣通常只需要氧氣純度，而對其他衛(wèi)生條件沒有特殊要求。同時，它還包含有害氣體，例如一氧化碳，甲烷，濕氣，細(xì)菌和灰塵。工業(yè)氧氣主要用于焊接和氣焊、氣割等。
高純氧氣是空氣的成分之一，無色，無味，無味。氧氣的密度大于空氣的密度，在標(biāo)準(zhǔn)條件下（0°C和大氣壓101325 Pa），密度為1.429 g/l。氧氣的大規(guī)模生產(chǎn)方法是分餾液態(tài)空氣。首先，空氣被壓縮，并且在膨脹和膨脹之后被凍結(jié)為液態(tài)空氣。由于稀有氣體和氮氣的沸點低于氧氣，因此，分餾后，剩下的就是液態(tài)氧，可存放在高壓鋼瓶中。
工業(yè)高純氧氣是用于工業(yè)生產(chǎn)和產(chǎn)品加工的氣體。低質(zhì)量要求通常要求純度達(dá)到99％或更高。填充程序不如醫(yī)用氧氣嚴(yán)格。水和其他雜質(zhì)經(jīng)?；烊氩⒈Ａ粼谘鯕馄康难鯕馄恐??；烊氩埩粼阡撈恐械乃畬?dǎo)致氧氣瓶的內(nèi)壁生銹，這將導(dǎo)致瓶中的氣體產(chǎn)生異味。